國內某頭部半導體硅片企業，專注于半導體硅片的研發、生產與銷售，產品覆蓋 4-12 英寸酸腐片、拋光片、外延片等關鍵半導體材料，是集成電路、分立器件及傳感器等半導體產品制造的核心材料供應商，在國內半導體硅片產業鏈中占據重要地位。

半導體硅片作為半導體產業鏈的基礎材料，生產工藝流程復雜，易產生裂片、桔皮、晶孔等多種復雜缺陷。目前多數硅片工廠依賴人工目檢進行缺陷檢測，但隨著產能提升與工藝要求升級，人工檢測的弊端日益凸顯：

標準不一，效率低下：人工判定標準不統一，導致檢測效率低下，難以匹配高產能需求；

人力依賴，成本高昂：質檢人員流動性大，培訓周期長達3-6個月，人力成本居高不下；

精度不足，良率受限：人眼最小可識別缺陷約5μm，無法滿足0.3μm級的高精度工藝要求；

數據缺失，難以追溯：無系統化缺陷記錄，歷史數據無法追溯，難以支撐質量分析；

缺陷繁多，根因難定：缺陷種類多（超20種常見類型），人工統計難以量化數據，無法定位缺陷根因；

實時監控難：缺乏實時數據反饋，無法及時鎖定工藝異常，易導致批量質量問題。

缺陷示意圖

針對半導體硅片生產工藝特點及高精度檢測要求，格創東智推出ALIOTH系列S800F自動目檢儀，專為外延片、拋光片的缺陷檢測設計，通過CV（計算機視覺）+AI復合算法實現缺陷的自動化檢測、分類與統計，全面提升質量控制能力。

01 高精度外觀缺陷檢測

采用高分辨率機器視覺系統，實現0.3μm級檢測精度，精準定位并抓取表面缺陷；

獨創光學系統設計（多光源組合+偏振光調節），大幅提升滑移線、桔皮、燒結等疑難缺陷的檢出率（較傳統設備提升30% 以上）；

支持缺陷自動分類（覆蓋20+常見類型），分類準確率達 95% 以上。

02 全流程數據統計與分析

實時統計缺陷分類占比、位置分布，生成可視化報告，快速定位工藝改善方向；

批量分析缺陷變化趨勢，追溯缺陷產生的設備/工藝環節，實時監控設備性能波動；

結合生產數據進行缺陷根因分析，為工藝優化（如拋光參數調整、清洗流程改進）提供數據支撐。

03 自適應缺陷識別能力

通過自適應成像配置（亮度/焦距自動調節）及多模式成像（明場/暗場/熒光），適配不同規格硅片（4-12英寸）；

搭載無監督遷移學習AI算法，無需人工標注即可自動識別新型缺陷，縮短新缺陷檢測響應時間（從傳統的2周縮短至1天）；

聯動設備控制系統，當缺陷率超過閾值時自動報警，鎖定工藝異常。

人力成本大幅降低：單條產線質檢人力投入降低60%；設備檢測速度達30秒/片，支持 24 小時不間斷運行，滿足高產能需求。

檢測精度與一致性提升：缺陷檢測整體準確率達 99%，其中硬傷類缺陷（如崩邊、裂片）檢出率99.9%，程度損傷類缺陷（如拋光痕、滑移線）檢出率95% 以上，統一檢測標準，消除人工主觀誤差。

出貨良率顯著改善：通過缺陷根因分析優化工藝（如調整拋光壓力、改進清洗液配比），出貨良率明顯提升，年減少不良損失超千萬元。

數據化質量管理體系建成：實現缺陷數據全留檔、可追溯，累計存儲 100萬+片硅片缺陷數據，為工藝持續優化提供堅實支撐。