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為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡?

為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡?

2025/3/20 15:01:01

電力電子器件高度依賴于硅(Si)、碳化硅(SiC和氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)等半導體材料。雖然硅一直是傳統的選擇,但碳化硅器件憑借其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎。相較于硅,碳化硅具備多項技術優勢(圖1),這使其在電動汽車、數據中心,以及直流快充儲能系統光伏逆變器能源基礎設施領域嶄露頭角,成為眾多應用中的新興首選技術。

 

 

Properties

特性

Si

4H-SiC

GaN

Energy(eV) Bandgap

禁帶能量(eV)

1.12

3.26

3.50

Electron Mobility

(cm2/Vs)

電子遷移率(cm2/Vs)

1400

900

1250

Hole Mobility

(cm2/Vs)

空穴遷移率(cm2/Vs)

600

100

200

Breakdown Field

(MV/cm)

擊穿電場(MV/cm)

0.3

2.0

3.5

Thermal Conductivity

(w/cm°c)

導熱性(w/cm°c)

1.5

4.9

1.3

Maximum Junction

Temperature (°C)

最高結溫 (°C)

150

600

400

 

1:硅器件Si)與碳化硅(SiC器件的比較

 

 

什么是碳化硅Cascode JFET技術?

 

眾多終端產品制造商已選擇碳化硅技術替代傳統硅技術,基于雙極結型晶體管(BJT)、結型場效應晶體管(JFET)、金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET絕緣柵雙極晶體管(IGBT等器件開發電源系統。這些器件因各自特性(優缺點不同)而被應用于不同場景。

 

然而,安森美(onsemi)的EliteSiC 共源共柵結型場效應晶體管Cascode JFET器件(圖2)將這一技術推向了新高度。該器件基于獨特的"共源共柵Cascode)"電路配置——將常開型碳化硅JFET器件與硅MOSFET共封裝,形成一個集成化的常型碳化硅FET器件。我們的碳化硅Cascode JFET能夠輕松、靈活地替代IGBT、超結MOSFET以及碳化硅MOSFET等任何器件類型(圖3)。

 

本文將深入探討安森美EliteSiC Cascode JFET相較于同類碳化硅MOSFET的技術優勢。

 

image.png 

2安森美碳化硅 Cascode JFET 器件框圖

  

碳化硅相較于硅的技術優勢

 

與硅器件相比,碳化硅Cascode JFET具備多項優勢。碳化硅作為寬禁帶材料,具有更高的擊穿電壓特性,這意味著其器件可采用更薄的結構支持更高電壓。此外,碳化硅相較于硅的其他優勢包括:

 

對于給定的電壓與電阻等級,碳化硅可實現更高的工作頻率,從而縮小元器件尺寸,顯著降低系統整體尺寸與成本。

較高電壓等級(1200V 或更高)應用中,碳化硅可以較低功率損耗實現高頻開關。 而硅器件在此電壓范圍內幾乎無法勝任。

任何給定的封裝中,與硅相比,碳化硅器件具備更低的導通電阻(RDS(ON))和開關損耗。

在與硅器件相同的設計碳化硅能提供更高的效率和更出色的散熱性能,甚至更高的系統額定功率。

 

 

 

碳化硅Cascode JFET 無縫升級替代硅基方案,卓越性能全面釋放  

 

這些優勢體現在安森美 EliteSiC Cascode JFET 的性能,這是一種更新功能更強大的器件,針對多種功率應用進行了優化。

 

硅基柵極驅動器兼容: 實現向碳化硅的無縫過渡

 

首先,碳化硅Cascode JFET 的結構允許使用標準硅柵極驅動器。 這簡化了從硅基到碳化硅設計的過渡,提供了更大的設計靈活性。它們與各種類型的柵極驅動器兼容,包括為 IGBT、硅超結 MOSFET 和 碳化硅MOSFET 設計的驅動器。

 

image.png 

3:按電壓分的功率半導體器件

 

 

其他優勢

 

· 在給定封裝,擁有業內領先的漏源導通電阻RDS(ON),可最大度地提高系統效率。

· 更低的電容允許更快的開關速度,因此可以實現更高的工作頻率;這進一步減小了如電感器和電容器等大體積無源元件的尺寸。

· 與傳統應用于這一細分領域的硅基IGBT相比,碳化硅Cascode JFET在更高電壓等級(1200V或以上)下能夠實現更高的工作頻率,而硅基IGBT通常速度較慢,僅能在較低頻率下使用,因此開關損耗較高。

· 安森美EliteSiC Cascode JFET器件在給定RDS(ON) 條件下,實現更小的片尺寸,并減輕碳化硅 MOSFET常見的柵極氧化層可靠性問題。

 

 

SiC MOSFET vs. 安森美SiC Cascode JFET:深入對比

 

讓我們花一點時間來更深入地了解SiC MOSFET 與 安森美SiC JFET 技術之間的差異。 從下面的圖 3 中我們可以看到,SiCMOSFET 技術不同于安森美的集成式SiCCascode JFET——這是精心設計的結果安森美設計的SiCJFET去掉了碳化硅MOSFET 的柵極氧化層,這不僅消除了溝道電阻,還讓裸片尺寸更為緊湊

 

安森美碳化硅 JFET 較小的片尺寸成為其差異化優勢一個關鍵所在,"RDS(ON) x A"RdsA品質因數 (FOM) 得以最佳體現,如圖 4 所示。這意味著對于給定的芯片尺寸,SiCJFET 具有更低的導通電阻額定值,或者換言之,在相同 RDS(ON) 下,安森美SiC JFET 尺寸更小安森美 RdsA FOM 方面的卓越表現樹立了行業領先地位體現在以相對較小的行業標準封裝(如 TOLL D2PAK)提供的超低額定電阻產品。

 

image.png 

 

4碳化硅MOSFET 安森美Cascode JFET 的比較

(從外看,Cascode 是一種常 FET

 

SiCMOSFET 相比,EliteSiC Cascode JFET 具有更低的輸出電容 Coss。輸出電容較低的器件在低負載電流下開關速度更快,電容充電延遲時間更短。這意味著,由于減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,現在可以制造出更小、更輕、成本更低且功率密度更高的終端設備。

 

image.png 

5安森美碳化硅Cascode JFET 碳化硅 MOSFET 的競爭產品對比

 

以下是關于SiCMOSFET的其他挑戰:

· 碳化硅MOS 溝道電阻高,導致電子遷移率較低。

· Vth 在柵極偏置較高的情況下會發生漂移,這意味著柵極到源極的電壓驅動范圍受到限制。

· 體二極管具有較高的拐點電壓,因此需要同步整流。

 

然而,使用安森美SiCJFET,上述缺陷得以根本解決,因為:

· SiCJFET 結構的器件上摒棄 MOS(金屬氧化物)結構,因此器件更加可靠。

· 在相同芯片面積下,漏極至源極電阻更低。

· 電容更低,這意味著更快的開關轉換和更高的頻率。

 

 

 

為什么選擇安森美EliteSiC Cascode JFET

 

盡管市場上可供選擇SiC功率半導體種類繁多,但在某些特定應用中,器件的表現確實比其他器件更為出色。安森美的集成式SiC Cascode JFET 便是其中的佼佼者,因其低 RDS(ON)、低輸出電容和高可靠性等獨特優勢,能夠提供卓越的性能。此外,碳化硅 Cascode JFET架構使用標準硅基柵極驅動器,簡化了從硅到碳化硅的過渡過程,可在現有設計中實施。 因此,它為從硅到碳化硅的過渡提供了靈活性--實施簡單,同時得益于SiC技術提供卓越的性能。

 

image.png 

6EliteSiC Cascode JFET

 

這些優點幫助安森美SiCCascode JFET 技術在其他技術無法企及的領域大放異彩。 碳化硅JFET 的增強性能使其在用于人工智能數據中心、儲能直流快充 AC-DC 電源單元實現更高的效率。隨著對更高功率密度和更緊湊外形需求的增加,安森美SiCCascode JFET 能夠實現更小、更輕和更低成本的終端設備。由于減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,有助于實現更高的功率密度。


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柳威
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