ZEISS scatterControl模塊可顯著改善圖像質(zhì)量，并將CT掃描的散射偽影降至最低。上述優(yōu)化有助于合適零件的后續(xù)數(shù)據(jù)處理和評(píng)估步驟，從而讓表面測(cè)定和缺陷分析更為精確。該產(chǎn)品適用于高容量、高密度零件，如增材制造的金屬零件和鋁鑄件（甚至帶有鋼嵌體），以及其他含有高密度材料的裝配件。

該模塊可用于ZEISS METROTOM 1500 225kV G3，也可作為改造解決方案或購(gòu)買新系統(tǒng)的一部分。即刻起，使用ZEISS scatterControl升級(jí)您的系統(tǒng)吧。您將獲得良好的圖像質(zhì)量，從而更便捷地進(jìn)行數(shù)據(jù)評(píng)估。

優(yōu)勢(shì)

ZEISS scatterControl的優(yōu)勢(shì)有哪些？

圖像質(zhì)量更佳、缺陷檢測(cè)性能更優(yōu)

ZEISS scatterControl通過減少散射輻射造成的偽影，顯著改善了CT圖像質(zhì)量。不同組件之間的對(duì)比度提升，缺陷檢測(cè)步驟也得以簡(jiǎn)化：可對(duì)既往幾乎無(wú)法評(píng)估的零件區(qū)域進(jìn)行評(píng)估。

優(yōu)化表面測(cè)定

受益于ZEISS scatterControl，不僅缺陷檢測(cè)步驟有所簡(jiǎn)化，表面測(cè)定的總體質(zhì)量也有所提升。這對(duì)于具有挑戰(zhàn)性的零件的計(jì)量應(yīng)用而言是巨大優(yōu)勢(shì)，如果不對(duì)其偽影進(jìn)行校正，則會(huì)影響表面測(cè)定過程。

配備VAST模式，實(shí)現(xiàn)快速掃描

ZEISS scatterControl可與“Stop and Go（走停）”和VAST掃描模式配合使用。ZEISS scatterControl解決方案為錐束CT提供良好的圖像質(zhì)量，可與扇束CT的圖像質(zhì)量相媲美，但掃描時(shí)間可提高1000倍。

使用方便

ZEISS scatterControl屬于一鍵式解決方案。該模塊可與METROTOM OS的其他有用功能無(wú)縫銜接，如VHD（虛擬水平探測(cè)器擴(kuò)展）、AMMAR（高級(jí)混合材料偽影減少）或VolumeMerge，并完全集成到軟件中。

圖像質(zhì)量

ZEISS scatterControl的缺陷分析性能更優(yōu)

ZEISS scatterControl可顯著改善各種零件和行業(yè)的CT掃描圖像質(zhì)量。其作用機(jī)制十分明確，該解決方案不僅可有效去除偽影，還能對(duì)模塊進(jìn)行相對(duì)于工件的定位。基于這些優(yōu)勢(shì)，ZEISS scatterControl成為所在領(lǐng)域的理想之選。通過以下內(nèi)容了解如何使用該模塊進(jìn)行缺陷檢測(cè)和分析。

減少偽影，改善CT圖像質(zhì)量

ZEISS scatterControl與其他產(chǎn)品相比具有明顯差異，其使用滑塊元素來(lái)比較使用和不使用scatterControl模塊可實(shí)現(xiàn)的X射線圖像質(zhì)量。因此，改進(jìn)后的圖像對(duì)比度更高且偽影更少，從而使細(xì)節(jié)呈現(xiàn)更為清晰。

基于模塊定位

鑒于模塊的工作原理，ZEISS scatterControl與同類產(chǎn)品相比具有較高的質(zhì)量：其置于管線和探測(cè)器之間。可將較小物體（如密集型增材制造零件）放置在模塊前方，將較大物體放置在后方。兩種方式皆可發(fā)揮作用。此外，內(nèi)置的物理碰撞傳感器和精密的碰撞預(yù)測(cè)軟件可有效防止碰撞。

適用于各種零件和行業(yè)

鑄造：大型鋁制或鎂制零件（甚至帶有鋼嵌體）

汽車：帶有鋼嵌體的鑄件、電力電子器件

增材制造：密集型金屬印制零件

改進(jìn)三維檢測(cè)

改進(jìn)體積數(shù)據(jù)讓評(píng)估更加便捷。確定并生成三維表面，且無(wú)干擾性偽影。許多偽影通常由散射輻射造成，在三維表面產(chǎn)生偽面，進(jìn)而妨礙精確測(cè)量。